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第292章 nm光刻机突破近在咫尺(2/2)

明年秋季能按期开学。”

    评审会的讨论一直持续到深夜。专家组最后给出了明确的:中微和南大光电的技术突破令人鼓舞,28nm光刻机项目有望全面按期完成。但要特别注意三点:一是工艺稳定性的验证要更加充分,二是要加强安全性设计,三是要做好量产准备。

    散会后,李一凡和几位专家继续交流。

    “说实话,你们的进展超出了预期。”专家组长说,“特别是在光学系统和光刻胶配合方面的创新,开创了一条新路。这种良好的创新模式值得推广。”

    李一凡谦虚表示:“这得益于省里的大力支持,让我们在关键技术上持续投入有底气。不过现在还不是放松的时候,工程机只是第一步,量产才是真正的挑战。”

    回到办公室,李一凡给林允儿打了个电话。

    “今天的评审情况。”他说,“但有些技术细节暂时不要对外公开,??特别是智能控制算法方面的创新。你在新华社的报道中要把握好分寸。”

    “明白。”林允儿说,“重点报道团队协作和创新精神,具体技术内容点到现状。”

    望着窗外忙碌的工地,李一凡心中充满期待。28nm光刻机的突破近在咫尺,这将使星城的半导体产业带来质的飞跃。
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