书吧

字:
关灯 护眼
书吧 > 学习百倍暴击,我从此天下无敌 > 第416章 把辰芯微做成世界第一的芯片制造公司

第416章 把辰芯微做成世界第一的芯片制造公司(1/2)

    193nm的干式dUV光刻机对阿斯麦来说,并不是多高大上的技术。

    早在上个世纪90年代,他们就整了出来。

    随后因为一个林姓的华裔研究出了浸没式技术。

    其加入了台鸡电,在让台鸡电快速扩张的同时,也让阿斯麦成为了行业中的领头者。

    在泥康这些日企苦苦研究干式光刻机的时候,他们的浸润式光刻技术,让阿斯麦一举成为了领先。

    时至今天,阿斯麦已经研制了EUV光刻机,行业领先地位,再难撼动。

    但是否意味着阿斯麦永远不会衰落呢?

    并不是这样。

    技术的突破,甚至是技术的更新,带来技术弯道超车,都可能让一个原本领先的技术公司,再次落后。

    江奕辰就坚定地这么认为。

    也不断地开展各类延伸性研究。

    特别是自己的个人实验室,并不是江奕辰在主要研究光刻技术的时候,他们就闲着。

    相反,江奕辰也给了不少的研究课题,让孙阳、罗钰牵头开展。

    只要他们研究出来的技术,都进入江奕辰奕辰集团的技术鱼池。

    一旦哪个技术获得应用,那么他们这些人也将会有巨大的技术分红。

    如今大的技术不说,但江奕辰将一种电致发光材料交给他们研究之后,还真让他们整了新的东西。

    不过江奕辰现在没有理会。

    新光刻技术正在实验。

    张成研究的高分子溶液暂时失败,找的数十个材料,虽然取得了一定效果,但却因为各种原因,没有办法采用。

    唯独好一点的,制备纯度极高的溶液难度大不说,成本也高,还容易侵蚀衬底,让光刻的效果消散。

    最后江奕辰把重点放在了孔连华的研究上。

    孔连华研究的是一种特制的晶体。

    在第一阶段研究的过程中,孔连华在江奕辰的提醒下就制备了超过10种的符合折光率条件的晶体。

    全部超过超纯水的折光率。

    其中最好的一种晶体,可以让光的波长,从193nm缩减到90nm。

    这意味着可以轻易地制备14nm的芯片。

    因为光的波长是横向尺寸,把光比作弯曲的钻头,弯曲成正弦波样子,那么弯曲一个来回,钻头的长就是波长。

    用这个钻头来打孔,就会晃动,这是光波的打在被爆光的面上的精细程度。

    如果采用多重曝光、鳍式场效应晶体管Fi技术,突破到7nn,甚至5nm估计也不成问题。

    只是这种晶体的缺点也较多,特别是高温形变问题是难点中的难点。

    光刻,是光在晶圆上进行雕刻,

    光不断地冲击,会让晶圆发热。

    在晶圆上面再加一个晶体,比增加一个透镜的难度要大得多。

    最后选定的,是镓镁晶体。

    这种晶体,在特殊的技术处理之后,能够适应较高的温度,高温形变上能够有效改善。

    当然,这种也只是改善,并不能完全解决。

    “江总,我们的专家们厉害,把这个系统破解了,增加了一道非接触式光刻系统。”孔连华解释道,“就是咱们这么一搞,出问题后要阿斯麦的工程师来修就不可能的事了。”

    不仅不能让人来修,还不能让人知道。

    江奕辰并没有直接回复,而是看着一片测试晶圆的情况。

    “检测结果,28nm工艺。”

    就这么一个测试,就达到了28nm工艺的极限。

    显而易见,镓镁晶体给193nm的光刻机带来了巨大的质变。

    “单片晶圆光刻后,晶体的温度达到了80度。”

    “再高一些,这个误差就无法软件纠正了。”

    孔连华郁闷地说道。

    江奕辰摆手,“增设一个降温系统即可,准备一个类似双工件台的设备,在每次光刻一个晶圆后,镓镁晶体同步撤出散热,换新的晶体上。”

    张成在旁边看着抚掌赞叹,“对啊,既然改都改了,咱们改得更合适一些就行了。”

    孔连华点头应是,“这倒是,看起来我们可以给这个技术取个名字了。”

    “就叫改良型非接触式193nm光刻机。”

    江奕辰直接定下了名字。

    他可不想随便把这个技术透露出去。

    哪怕是使用的是什么样的晶体。

    至于制备技术,那就更是机密中的机密。

    江奕辰与这些人全部都签订了最严格的保密协议。

    以确保技术不会外泄。

    不过想想也比较困难,因为关键的技术江奕辰、孔连华亲自掌握的。

    只要两人不外透,就不存在外泄的问题。

    孔连华又建议道,“不过,193nm的光刻机,咱们想搞掉也不容易。”

 
本章未完,请点击下一页继续阅读》》
『加入书签,方便阅读』
内容有问题?点击>>>邮件反馈