但是基本没交专利费。
是占专利名额，利用专利法申请不交费废止来做滚动性保护。
这样既可以占优先权，又可以不公开，通过一次又一次新的申请更新优先权延长专利保护期。
算是某种基操。
有意思的是，胜遇实验室的研究并不怎么花钱，除了技术储备和基础研发环境支出外，最大头的支出居然是研发人员的薪资……
听完汇报，脑子里也开完小差的方总想了想，道“下午召开一次联合会议，需要有长光所等一些合作单位的参与。”
“我来协调。”行政主管连道。
“我会帮忙。”王院士跟着说道。
“……”
午后两点，长光所副所长张学君等人，大部分合作的科研单位代表都来到了梼杌实验室。
方年坐在居中位置。
神态轻松自如。
令人不敢忽视。
张学君也想起了两年多前的那次会面，实在没想到再见面时会是这样的光景。
方年目光扫过与会众人“各位下午好，我是方年，初次见面，请多关照。”
“方总好。”
“方总太客气了。”
“……”
简单的寒暄过后，方年直截了当道“恕我冒昧，为了不耽误大家更多的时间，我就开门见山了。”
“庐州前沿正在建设一条12寸晶圆测试线，为了配合这条测试线，梼杌这边将全面进军v光刻研究，希望大家能给予必要支持。”
此话一出，众人皆愣。
包括梼杌的王院士。
“v？”张学君挑了下眉，斟酌着说道，“方总，冒昧问一句，你好像对极紫外情有独钟？”
“理论上只有最尖端光刻需要用到极紫外光刻，dv(深紫外)借住浸入式方案理论上可以做到7n光刻，似乎没必要全面进军v？”
“……”
在座众人都是懂行人士，纷纷发表了各自的看法。
比如dv技术积累等等问题。
毕竟梼杌实验室名字里的‘半导体设备’五个字有85是针对
集成电路前道制造光刻机。
光刻机其实是个泛称，内里可细分为前道制造、后道封装、应用于tft(薄膜晶体管)的光刻、应用于中小基底先进光刻等的光刻机。
一般大众认知范围内的光刻机是集成电路前道制造光刻机……
听着大家的不同意见，方年微微一笑“dv不是有各位在努力吗？”
“前沿不能白叫前沿这个名字，而且v这个领域基本上属于赢家通吃，很符合前沿的目标。”
王院士立马道“可是实验机去年就运到了台积电使用。”
“……”
“这个领域需要很庞大的投入。”
“……”
方年当然知道。
他更清楚的是，全球范围内v光刻机的差距其实不太大。
要么就是没想过，要么就是放弃了。
唯一一家至死不渝坚持到底的是asl。
有意思的是，最终水准其实取决于砸钱程度以及对技术整合的程度。
当然，asl快得很，06年开始投入，去年推出了首台v工程原型机，而且还有台积电这个大客户在使用、验证、反馈。
但……
asl很缺钱，方年曾看过的所有与asl有关的媒体报道都提到了年7月份发起的客户联合投资计划。
这份计划募集了超过50亿欧元的资金，其中一半用于v光刻研发。
且因为始终未实现v光刻机的大规模量产，以至于参与这份计划的三星、台积电、英特尔先后减持了股份。
钱这东西，前沿也缺。
但前沿在某种意义上可以不缺钱……
等众人讨论完，方年淡然道“前沿计划今年内首批投入10亿美元，包括但不限于面向全球收购相关企业、专利授权、研发投入；
明年起的三年内前沿一家的年平均纯研发投入不低于50亿人民币，后续视情况递增。”
会议室为之一静。
方年继续说道“其次，梼杌会牵头促成一个大的泛技术联合投资管理单元，梼杌只承担其中一部分研发工作和大头资金投入，每个单位做自己最擅长的事情；
比如长光所在光相关工作上努力，比如上微电来做总成。”
“协调前沿来搞定，包括其他单位的出资力度等，各位考虑一二给个答复。”
张学君“……”
“……”
最后有人弱弱的道“那dv呢？”
闻言，方年眼皮微动，面带微笑“差点忘了，庐州前沿需要一台国产的高精度dv光刻机来进行实验，最好是实验室产品，各位帮帮忙？”
“……”